
一般来说,废气排放量较大,VOCs浓度较低。半导体工艺过程中有机废气具有排放流量大(通常大于11000m3/h)和浓度低(通常小于25ppmv)的特点,电子工业废气VOCs排放中还含有酸性气体、碱性气体和一些有毒气体。
挥发性有机物(VOCs)排放量大、浓度低、成分复杂,常见有机废气治理方法如:焚烧、吸附、冷凝、生物膜法、低温等离子、光催化氧化等,单独运用或无法达成经济运行,或不能满足严苛的排放标准。
电子厂废气处理方法
(1)预处理阶段:一般采用喷淋塔先对废气进行预处理,去除粉尘以及易溶于水的有害气体。
(2)主要处理阶段:在此阶段,比较常见而有效方法有:UV光解,生物过滤分解,焚烧和催化燃烧等。
这几种方式各有优劣,根据大多数电子厂废气的情况,在这里我们主要推荐和介绍活性炭浓缩+蓄热式催化燃烧系统去除VOCs气体的方案。







活性炭吸附废气处理:活性吸附装置主要用于过滤、吸附废气中的有机废气和粉尘,达到净化有机废气和粉尘的效果。吸附装置是一种较为传统的废气处理方法。在过去的几年里,许多公司都使用这种设备。200mg/m3浓度下对废气处理效果明显,处理成本。但是,由于高浓度处理中活性炭的频繁更换,消耗的消耗品和饱和后活性炭的处理成本非常高。
农场的废水处理设备经过处理后排放,为周围村民创造了良好的生活环境,受到群众的高度期待;屠宰场的废水处理设备使剩余的屠宰固体废物得以使用,它改变了过去乱扔垃圾的样子,节省了资金,美化了环境,并为我们共同的家园创造了绿色。
利用理化和生化处理的过程,废水通过格栅将大部分粪便分离后进入PH调节罐进行凝结,用石灰将废水的ph值调节到10-11,多余的石灰和田间废水通过浮选从配水槽到气浮机中去除,并强烈充气和吹气以去除游离的氨氮,水中过量的钙离子产生碳酸钙沉淀。随后磁场中的废水自行流入厌氧槽,并通过厌氧槽深度厌氧。大多数大分子有机物分离后,流入n(A/O)反应池和MBR池进行好氧生物化学,消毒后MBR池出水达到标准。在这个过程中,多部分AO过程被设置在MBR和厌氧部分的中间,入水进入n(A/O)反应槽,在n(A/O)反应池中,通过缺氧、好氧、缺氧,在几个好氧生化过程中,去除大多数有机物和氮,使废水排放达到标准。